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InP Wafer

Product Numbers: 201374112958

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Product description:

INTRODUCTION

产品简介

性状:沥青光泽的深灰色晶体, 闪锌矿结构。
熔点:1070℃。常温下带宽(Eg=1.35 eV)。熔点下离解压为2.75MPa。
溶解性:极微溶于无机酸。
介电常数:10.8
电子迁移率:4600cm2/(V·s)
空穴迁移率:150cm2/(V·s)
制备:具有半导体的特性。由金属铟和赤磷在石英管中加热反应制得。

产品技术参数

单晶
InP 备注
外形尺寸 2" , 3", 4" 客户要求
厚度 Dia2" X 500µm(单抛或双抛)
Dia3" X 500µm(单抛)
Dia4" X 635µm(单抛)
晶向 <100> 客户要求
掺杂 None;Sn;S;Fe:Zn
硬度 3.0莫氏硬度
密度 4.78 g/cm3
导电类型 N;N;N;Si;P
折射率 3.45
载流子浓度cm-3 1-2x1016 ,1-3x1018
1-4x1018 ,6-4x1018
位错密度cm-2 <5x104
生长方法 LEC
温度 1072℃
弹性模量 7.1E11dyn Cm-2
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